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  • 产品名称:曝光机参数 MA-6801ML 日本曝光机 DNK大日本科研 光敏曝光机

  • 产品型号:MA-6801ML
  • 产品厂商:日本DNK大日本科研
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简单介绍:
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详情介绍:

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 DSMRO012






这是一种垂直接近式曝光机,通过使掩模和基板垂直来减少偏转。它还支持内嵌水平输送式前后处理设备。

主要特点
  • 垂直放置掩模架/基板台。掩模/掩模支架/基板台自重偏转校正变得不必要,实现了简单和稳定的装置。
  • 新通过该光学系统的,变得小于一半二偏角通常影响图案转印精度(相),更高的准确度可以是图案转移。
  • 完全分离主机和光源单元。通过不将光源的热量传递至主体的结构,主体的热量分布得以改善。
  • 为了防止由于掩模和玻璃基板的温度差异引起的膨胀和收缩,可以选择基板台温度控制和掩模冷却系统。(可选)
  • *大的电路板尺寸是1,200毫米×1,400毫米。而且,可以用独特的光学系统进行统一的一体式曝光。
  • 可以安装能够存储5个掩模的掩模库。
主要规格
  MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
底物大小 550 x 650毫米 650 x 750毫米 1100 x 1300毫米
面膜大小 620 x 720 x t 8.0毫米 700 x 800 x t 8.0毫米  1200 x 1400 x t 4.8毫米
对准 非接触预校准〜可以自动校准
差距 具有感应功能
光源 超高压汞灯:8千瓦 超高压汞灯:8千瓦 超高压汞灯:18千瓦
外部尺寸和重量 身体尺寸 W 3500×D 2720×H 2700毫米 W4150×D3200×H2900毫米 W 11300×D 7060×H 3350mm
体重 3500公斤 3800公斤 12700公斤
光源重量 800公斤 1150公斤 4200公斤
选项 面罩冷却,基板平台温度控制,热室,特殊对准照明
使用 触摸屏,彩色滤光片,有机EL,C-STN,电子纸等













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