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MX-1201E 日本曝光机 ***曝光 紫外曝光机 DNK大日本科研
MX-1201E 日本曝光机 ***曝光 紫外曝光机 DNK大日本科研
MX-1201E 日本曝光机 ***曝光 紫外曝光机 DNK大日本科研
DSMRO012
-
它是一种可以通过原始高速绘图“点阵法”直接绘制图案的设备。
无掩模曝光技术
-
直接图像曝光是可能的研究和开发,试制,小批量生产和其他应用程序。
-
可以支持**PCB,高密度封装,平板显示器等,MEMS等微加工领域可供选择。
-
在光刻工艺中不需要光掩模,可以*小化开发成本和时间差。
-
另外,我们可以根据您的需求来响应设备的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小线宽(* 1)
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
数据分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接触面积
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波长
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光扫描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光学引擎的数量
1
7
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它是一种可以通过原始高速绘图“点阵法”直接绘制图案的设备。
无掩模曝光技术
-
直接图像曝光是可能的研究和开发,试制,小批量生产和其他应用程序。
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可以支持**PCB,高密度封装,平板显示器等,MEMS等微加工领域可供选择。
-
在光刻工艺中不需要光掩模,可以*小化开发成本和时间差。
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另外,我们可以根据您的需求来响应设备的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小线宽(* 1)
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
数据分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接触面积
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波长
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光扫描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光学引擎的数量
1
7
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它是一种可以通过原始高速绘图“点阵法”直接绘制图案的设备。
无掩模曝光技术
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直接图像曝光是可能的研究和开发,试制,小批量生产和其他应用程序。
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可以支持**PCB,高密度封装,平板显示器等,MEMS等微加工领域可供选择。
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在光刻工艺中不需要光掩模,可以*小化开发成本和时间差。
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另外,我们可以根据您的需求来响应设备的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小线宽(* 1)
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
数据分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接触面积
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波长
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光扫描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光学引擎的数量
1
7
它是一种可以通过原始高速绘图“点阵法”直接绘制图案的设备。
无掩模曝光技术
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直接图像曝光是可能的研究和开发,试制,小批量生产和其他应用程序。
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可以支持**PCB,高密度封装,平板显示器等,MEMS等微加工领域可供选择。
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在光刻工艺中不需要光掩模,可以*小化开发成本和时间差。
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另外,我们可以根据您的需求来响应设备的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
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*小线宽(* 1)
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
数据分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接触面积
200 x 200毫米
200 x 200毫米
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150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波长
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光扫描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光学引擎的数量
1
7
它是一种可以通过原始高速绘图“点阵法”直接绘制图案的设备。

MX-1201 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1204 | MX-1702e的 | |
*小线宽(* 1) | 5微米 | 5微米 | 3微米 | 1微米 | 10微米 |
数据分辨率 | 0.5微米 | 0.5微米 | 0.25微米 | 0.122μm | 1.0微米 |
*大板尺寸 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
有效的接触面积 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
激光主波长 | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm |
曝光扫描速度 | 43.9毫米/秒 | 22.5毫米/秒 | 10.9毫米/秒 | 92.2毫米/秒 | |
光学引擎的数量 | 1 | 7 |
电商集团(中国)有限公司成立于2009年,是香港电商集团在中国的全资分公司,位于深圳市南山前海金融区,注册资本壹亿元,主营业务涵盖国际贸易、妇婴用品、医辽、汽车、酒店、百货、投资理财、互联网等领域。集团在香港已建立完善的渠道网络,丰富的领域资源,密切的政府协作,三大方面保障了公司业务的顺利发展。秉承“行业多元化,水准国际化,服务专业化”的“三化”服务理念,利用其国际化的专业知识体系、精细化的服务流程、高性能的服务水准,为客户提供高性价比的产品和全方位立体化解决方案。集团的采购商品来自美国、德国、瑞士、法国、意大利、日本、韩国,并建立了分公司,从而取得优势的产品货源,以及*即时的产品讯息。集团服务客户已超过万家,并获得了百家国际品牌授权代理。
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