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  • 产品名称:MUM系列,MEMS用曝光装置,日本曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505

  • 产品型号:MUM系列
  • 产品厂商:日本DNK大日本科研
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简单介绍:
MUM系列,MEMS用曝光装置,日本曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列,MEMS用曝光装置,日本曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505 MUM系列,MEMS用曝光装置,日本曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505
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MUM系列,MEMS用曝光装置,日本曝光装置,DNK大日本科研DSLY0505
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在曝光过程中,通过移动掩膜来控制光刻胶表面的曝光能量分布。能够制作有任意曲面及倾斜的三维微细构造体。

特点:

采用独自的镜面・镜头光学系统,实现**均匀的照射。
配备有可设定非接触・面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的显微镜、X・Y・θ轴对位台的对位系统。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微细移动)能够控制厚膜光刻胶的侧壁倾斜角度,形成三维微细构造体。

主要规格

  MUM系列
掩膜尺寸 Max 9" x 9" x t3.0 mm
基板尺寸 Max Φ8"(Wafer)
光源 超高压水银灯 :500W or 1kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W2120 x D1305 x H1850 mm
本体重量 640kg

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽




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